삼성전자 화성공장 반도체 생산라인 일부 초미세 공정에서 생산 차질이 빚어지는 것으로 확인됐습니다.

수율이 50%를 밑도는 쉽게 말해 10개를 만들면 정상품이 절반을 못 넘기는 상황인데요.

개선을 위해서는 첨단장비 투자가 관건이란 분석입니다.

삼성전자는 지난해 2월 경기도 화성 V1 라인 가동을 시작했습니다.

V1은 7나노미터 이하 첨단반도체 생산단지로 전 세계 최초 극자외선, EUV 전용 라인입니다.

복수의 업계 관계자는 "최근 V1라인의 파운드리 생산 수율이 개선되지 않고 있고, 5나노 등 일부 양산 제품 수율이 50% 아래로 파악된다"고 밝혔습니다.

수율은 반도체 기술력과 기업 실적을 좌우하는 가장 중요한 요소로 꼽힙니다.

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현재 삼성은 5나노미터 이하 초미세공정에서 대만 TSMC와 초격차 승부를 겨루고 있습니다.

첨단공정 수율 개선을 위해선 EUV 노광장비 등 첨단장비 투자가 관건이란 분석이 나옵니다.

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