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반도체 관련 국가 핵심기술을 중국에 유출한 대기업·중견기업의 전·현직 직원들에게 징역형의 선고됐다. 국가 핵심기술을 국외로 빼돌린 범죄를 엄하게 처벌해야 한다는 데에 각계 전문가들의 공감대가 이뤄지고 있는 가운데, ‘솜방망이 처벌’이라는 지적이 나온다.

3일 법조계에 따르면 대전지법 제12형사부(김병만 부장판사)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 국내 모 기업 전 연구원 A(59)씨에게 징역 2년6개월을 선고했다.

A씨와 함께 기소된 공범 4명에겐 징역 6개월∼2년에 집행유예 1∼3년을, 나머지 한 명에게는 벌금 500만원이 선고됐다.

국내 3개 대기업·중견기업 전·현직 직원인 이들은 컴퓨터·업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 공정도 등의 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 촬영했고, 이런 수법으로 확보한 자료를 중국 업체에 유출한 혐의로 기소됐다.

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주범인 A씨는 임원 승진에 탈락하자, 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조사업 관련 동업을 하기로 약정한 뒤, 회사에 계속 근무하며 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축·사업을 관리했다. 그러면서 다른 회사 연구원인 일부 공범들을 포섭, 중국으로 이직시켰다.

재판부는 “국가 산업 경쟁력에 악영향을 주는 중한 범죄”라며 “피고인들의 범행이 적발되지 않았다면 피해 회사들이 실제 입을 수 있던 피해 규모를 고려하면 위험성이 큰 범죄였다”고 지적했다.

이어 “피고인별로 범행 동기나 가담 경위에 일부 참작할만한 사정이 있는 점, 중국에서 슬러리 개발 사업이 성공에 이르지는 않은 점 등을 고려했다”면서 “사건을 주도한 A씨에겐 징역형의 실형을 선고하지만, 구속할 필요성이 뚜렷하진 않아 법정구속하지 않는다”고 밝혔다.