美·日은 보조금 팍팍…20조 투자시 日 8조, 韓 1.2조
보조금 없이 세액공제 찔끔…클린룸 공제대상서 빠져

 

미국·일본을 비롯한 세계 주요국들이 대규모 투자에 대한 인센티브 경쟁이 뜨겁다. 하지만 한국 정부의 반도체 투자 인센티브는 미국의 22%, 일본의 15% 수준에 그치는 것으로 나타났다.

 

15일 한국반도체산업협회가 산출한 ‘국가별 투자 인센티브 자료’를 입수해 분석한 결과, 첨단 반도체 생산시설 구축에 투입하는 돈을 20조원으로 가정할 경우 한국에 투자한 기업이 받는 투자 인센티브는 1조2000억원으로 나타났다.

 

반면 같은 조건을 적용했을 때 미국 일본에 투자한 기업이 받는 인센티브는 보조금과 세제 혜택을 합해 각각 5조5000억원, 8조원에 달했다. 한국보다 무려 4.6배, 6.7배로 큰 셈이다.

 

이같은 인센티브 분석은 한·미·일 3개국의 반도체 관련 법안을 바탕으로 산출했다. 신규 반도체 팹(fab·반도체 생산시설) 투자금 20조원 중 부지·건물에 6조원, 인프라 설비 4조원, 공정장비 10조원이 소요되는 것으로 가정했다. 지난해말 한국에서 종료된 조세특례제한법에 따른 임시 투자세액공제는 고려하지 않았다.

 

현재 한국의 투자 인센티브는 15%의 설비투자 세액공제만 존재한다. 반도체 제조에 필수적인 클린룸을 비롯한 인프라 설비투자는 공제대상에 포함되지도 않는다. 이러다보니 20조원의 투자금 중 인프라 설비와 부지·건물 비용 10조원을 제외해야한다. 결국 반도체 장비 10조원의 15%에 해당하는 1조5000억원 어치의 세제혜택만 제공받는다.

 

이마저도 더 깎인다. 농어촌특별세법에 따라 조세감면을 받는 내국법인은 조세절감액의 20% 상당액을 농어촌특별세로 납부해야한다. 해당 금액인 3000억원을 빼면 최종 인센티브는 1조2000억원으로 줄어든다. 인센티브 규모가 총 투자액의 6% 수준에 불과한 셈이다.

 

반면 미국은 직접보조금(투자액의 5~15%)과 설비투자 세액공제(투자액의 25%)를 합해 5조5000억원에 달한다. 총 투자액의 27.5%를 인센티브로 받는다.

 

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